纳米压印技术自1995年发明以来,至今经历了二十多年的技术发展历史。因其优异的技术特点:高分辨,低成本,高产能,诞生之初就被认为是一种明星技术,是纳米光学的里程碑,被美国麻省理工科技周刊评为“将改变世界的十大新兴技术之一”,得到了学术界和产业界的广泛关注,被纳入到国际半导体产业技术发展蓝图(ITRS)。
随着纳米压印技术的推广,其优势和重要性越来越被学术界和产业界所重视。海外的纳米压印领域专家学者相继组织举办了纳米压印领域的专业会议,如在技术发展初期就开设了纳米压印分会的美国EIPBN会议,欧洲MNE会议以及日本MNC会议,以及2002年召开的第一届NNT会议,都给国际纳米压印技术领域的工作者们搭建了专属纳米压印行业的交流平台。
中国的纳米压印领域的专家学者也于2023年在苏州召开了中国首届专属纳米压印技术专业的科研、产业届会议(NTAC全球纳米压印技术与应用大会),为国内的纳米压印技术学术界和产业界的优秀人才提供了一个跨国界、跨学科、跨领域的开放交流与互动的平台。首届NTAC大会邀请到国内外学术界、产业界共计21位纳米压印领域行业大咖,共同探讨前沿技术和交流最新成果,引发了极其热烈的反响。
2024年,第二届NTAC全球纳米压印技术与应用大会将于金秋10月在苏州召开。会议将由姑苏实验室主办,苏州新维度微纳科技有限公司承办,聚合顶级行业资源,聚焦纳米压印技术创新,聚力产业共建共赢,共同探讨纳米压印领域的前沿热点问题和研究成果,为加速突破纳米压印技术制造领域发展瓶颈,推动国内制造业技术创新和产业发展贡献力量。