展商推荐 | 溢鑫科创即将亮相10月CHInano纳博会！

2021年是“十四五”规划纲要实施的开元之年，碳纤维、无机非金属、高性能复合材料等高端新材料；宽禁带半导体、光刻胶等电子高纯材料；微机电系统（MEMS）特色工艺作为规划纲要重点前沿科技发展方向，已逐渐成为各地争相发展新标地。全球蔓延的新型冠状病毒致使国际产业环境加速变动，对全球科技供应链产生广泛影响，中国作为世界唯一拥有全部工业门类的国家，肩负着科技发展的时代责任。

在此背景下，“CHInano 2021第十二届中国国际纳米技术产业博览会（The 12th CHInano Conference & Expo）”将于2021年10月27日-29日在苏州国际博览中心举办，共同探讨先进纳米技术产业发展大势。大会将以“山容海‘纳’|无‘微’不至”为主题，立足全国，放眼世界，为促进先进纳米技术产业卓有成效地全面发展提供国际性合作交流平台。

溢鑫科创成立于2008年，是由数位印刷电子领域的专业人员创办，自创建以来先后与国内外一流研究单位在微纳米领域及柔性印刷电子领域开展紧密合作，十年间伴随着中国科研日新月异溢鑫科创已发展成为国内知名的柔性印刷电子Flexible Printed Electronics领域专业供应商以及领军企业。现有印刷电子工艺涉及：PeJet压电喷墨打印，富士Dimatix DMP纳米材料喷墨打印，产业级喷墨打印机，Aerosol Jet气溶胶打印喷印，Optomec气溶胶打印喷印，EHD电流体喷印，3D不规则微电子打印，Gravure/Flexo凹版柔版旋转丝印，Slot Die狭缝涂布，R2R/R2P卷对卷涂布/压印工艺，气流喷射打印, 脉冲光烧结，NIR烧结，纳米压印以及FlexTest柔性材料与器件测试系统; 光刻微纳米加工工艺涉及：PPL聚合物笔纳米制造系统, BPL光束笔微影纳米光刻系统, 无掩膜激光直写光刻, FE-SPL场发射扫描探针光刻系统, 飞秒激光微纳米加工，2PP双光子3D聚合微加工系统，超大面积定制化ICP/RIE 我们本着以“勇于创新不懈追求”为经营信念，始终坚持提供以用户为导向的完善的科研解决方案，不断优化的售前、售后服务也保证了客户满意度和方案的可行性和先进性。目前公司有三大部门：显微镜部门：英国Cressington电镜专用镀膜设备, 美国XEI高真空等离子清洗设备，德国Nanoanalytik AFM原子力显微镜 微纳米光刻部门：TERA Print PPL聚合物笔纳米制造系统，BPL光束笔微影纳米光刻系统，Microtech无掩膜激光直写光刻系统，WOP(Workshop of Photonics) FemtoLab,FemtoFab飞秒激光微纳米加工系统, 2PP双光子3D聚合系统，Nanoanalytik FE-SPL高分辨场发射扫描探针光刻系统，GlowResearch定制化RIE/ICP; 印刷电子部门：Dimatix纳米材料喷墨打印机及压电喷头(DMP-2831, DMP-2850)，美国Sonoplot 微纳米材料沉积喷墨打印系统, 日本SIJ超高分辨喷墨打印系统，美国Aerosol Jet/Optomec高精细气溶胶打印系统（气溶胶喷墨打印系统），德国NeotechAMT 高粘度多功能3D微电子打印机，德国Microdrop生物医学微纳米材料喷墨打印系统，德国Notion工业级高精度喷墨打印机，PeJet多材料多通道喷墨打印机，气流喷射打印系统, 丹麦FOM Slot Die狭缝涂布仪，美国JetXpert飞行墨滴表征分析仪，进口高精度实验室及产业R2R狭缝涂布仪，R2R纳米压印系统，瑞士NSM多功能凹版印刷系统，美国NovaCentrix脉冲光烧结系统，德国adphos快速低温近红外烧结系统，FlexTest柔性材料与器件测试系统; PolyPico高精量生物材料打印系统，以及配套的油墨材料包括银浆，碳浆，铜浆，Pedot PSS等。eLab实验室拥有多台高端实验设备，测试内容包括薄膜表征及纳米材料喷墨打印等。